萨里大学(Surrey University)的一个研究小组的这一发现，可能是迈向大规模商业化和电子设备石墨烯生产的重要一步。他们的研究结果详见ACS应用纳米材料。
来自萨里先进技术研究所(ATI)的研究小组利用视频成像技术，展示了石墨烯在铁催化剂上生长，使用硅芯片内生产的氮化硅膜。这种薄膜只有几十纳米薄，通过调制发送到铁层的电信号，可以快速控制加热和冷却。这就像催化剂和电阻器一样提供热量。
据称，该成像技术使用费米能级对比来可视化石墨烯的掺杂水平。这种对比机制可用于识别相邻石墨烯薄片之间的电接触点。该成像还显示，薄片之间单独的物理接触不足以形成电子接触，这表明在电子能够从薄片跳到薄片之前，需要额外的键合。
ATI主任兼萨里大学纳米电子中心主任Ravi Silva教授在一份声明中说:“石墨烯是21世纪的神奇材料，在过去的十年里，人们对其独特而卓越的性能有了很多描述。如果它能熟练地处理并易于在应用程序中使用，它将得到广泛的应用。
“要做到这一点，需要有观察石墨烯并将其精确放置在设备上的途径。在这篇研究论文中，举例说明了这样一种途径——使用在大多数资源充足的实验室中发现的标准电子显微镜。我们希望这项工作将鼓励石墨烯在实际应用中的更多应用和发现。”
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是的，软件有帮助。但是，总有一个“但是”，它无法解决低功率密度的问题，以及基于实际电网传输限制的充电时间。