光刻胶将焦点放在激光诱导石墨烯上

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石墨烯已经用激光和光抗蚀剂制成了高分辨率和微米级的图案,这一进步可能会导致在消费电子产品中的应用。

光致抗蚀剂
image caption在左边,激光诱导的石墨烯猫头鹰被光刻胶材料包围,在右边,多余的光刻胶被丙酮洗掉后,它是独立的。

这是莱斯大学实验室的声明,他们已经证明了将经常用于消费电子产品制造的正光刻胶(PR)转化为激光诱导石墨烯(LIG)。

2014年,莱斯大学的化学家詹姆斯·图尔首次提出了激光诱导石墨烯(LIG),它将聚合物或其他材料中除碳以外的一切物质燃烧掉,使碳原子重新配置成六边形石墨烯薄膜。

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该过程使用商用激光将石墨烯图案写入到目前为止包括木材,纸张和食物的表面。

根据Rice的说法,新的迭代将石墨烯的精细图案写入光刻胶聚合物中。烘烤薄膜增加了其碳含量,激光固化了坚固的石墨烯图案,之后未激光的光刻胶被洗掉。PR-LIG过程的详细信息见ACS Nano

图尔在一份声明中说:“这种工艺允许在更传统的类硅工艺技术中使用石墨烯导线和设备。”“它应该允许向主流电子平台过渡。”

莱斯实验室生产出了宽约10微米、厚约数百纳米的LIG线,该团队表示,这与使用扫描电子显微镜连接激光的更繁琐的工艺所能达到的效果相当。

该论文的第一作者、研究生雅各布·贝克汉姆(Jacob Beckham)表示,实现足够小的LIG线路,促使实验室优化其工艺。

贝克汉姆说:“这项突破是对工艺参数的仔细控制。”“光刻胶的小线条根据其几何形状和厚度吸收激光,因此优化激光功率和其他参数使我们能够在非常高的分辨率下获得良好的转换。”

图尔说,由于正极光刻胶在被旋转到用于激光的基板上之前是一种液体,因此在原材料中加入金属或其他添加剂以定制其应用是一件很简单的事情。

潜在的应用包括片上微型超级电容器、功能纳米复合材料和微流体阵列。